La Cause De L'inégalité De Revêtement Pulvérisé De Magnétron

Quel que soit le type de machine à vide, l'uniformité des revêtements sera affectée par un certain facteur.

Le fonctionnement de la machine de revêtement sous vide par pulvérisation magnétron consiste à bombarder les ions d'argon formés par le gaz d'argon et à bombarder ensuite la cible par le champ magnétique orthogonal sous vide, et les ions cibles sont déposés sur la surface de la pièce pour former un revêtement. On peut donc considérer que l'état de vide, le champ magnétique et l'argon sont trois aspects liés à l'uniformité de l'épaisseur du film.

L'état de vide est contrôlé par un système de pompage d'air. Chaque port de pompage doit être actionné en même temps sous une force constante afin que l'uniformité de pompage puisse être assurée. Si le pompage n'est pas uniforme, la pression dans la chambre à vide ne peut pas être uniforme, car la pression a une certaine influence sur le mouvement des ions. De plus, le temps de pompage doit être contrôlé. Trop court va causer un vide insuffisant, mais ce sera un gaspillage de ressources si c'est trop long. Mais l'existence de jauges de vide le rend nécessaire.

Le champ magnétique fonctionne orthogonalement, mais il est impossible de rendre l'intensité du champ magnétique uniforme à 100%. En général, lorsque le champ magnétique est fort, l'épaisseur du film sera grande, et vice versa, de sorte que l'épaisseur du film sera incohérente.

L'uniformité de l'alimentation en gaz d'argon affecte également l'uniformité de la couche de film. Le principe est similaire au degré de vide. En raison de l'entrée de gaz d'argon, la pression dans la chambre à vide changera en conséquence. L'uniformité de l'épaisseur du film peut être contrôlée par la pression uniforme.

Bien qu'il y ait toujours plusieurs facteurs qui provoquent une irrégularité du film, mais le taux de réussite du film est très élevé si le bon fonctionnement de la machine de revêtement sous vide est effectué.