Principe de fonctionnement d'ALD

ALD fonctionne en exposant la surface du substrat à des précurseurs gazeux qui réagissent avec la surface, entraînant le dépôt d'une seule couche de matériau. Le processus est ensuite répété avec un deuxième précurseur qui réagit avec la première monocouche, conduisant au dépôt de la deuxième monocouche, et ainsi de suite. Le processus peut être répété autant de fois que nécessaire pour obtenir l'épaisseur et la composition de film souhaitées.

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