Trois caractéristiques principales de la technologie de dépôt en phase vapeur

Par rapport au surfaçage, à la pulvérisation thermique, au revêtement, à la galvanoplastie, au placage autocatalytique et à d'autres technologies de revêtement de surface, la technologie de dépôt en phase vapeur présente les trois caractéristiques principales suivantes.

① Le film de dépôt en phase vapeur est généralement composé d'un film métallique et composé de haute qualité. Afin d'améliorer les performances de service des produits, un film composé de métal, d'alliage ou de carbone, d'azote, de bore, d'oxygène et de silicium est généralement préparé à la surface de matériaux métalliques ou non métalliques par dépôt en phase vapeur. Ces membranes ont été largement utilisées dans différents domaines. ② Le film de dépôt en phase vapeur est un film généralement mince. En ingénierie, l'épaisseur du film préparé par dépôt en phase vapeur est le plus souvent de quelques dixièmes de micron à des dizaines de microns. Le film TiN doré utilisé pour la décoration est souvent de quelques microns, et l'épaisseur de revêtement d'outil TiN nécessitant une grande résistance à l'usure est souvent de quelques microns. Bien que ces films soient minces, ils peuvent grandement améliorer la résistance à l'usure, la résistance à la corrosion, la résistance aux hautes températures et d'autres propriétés de la pièce. Le dépôt en phase vapeur est le processus de base des produits optiques, électroniques, informatiques et autres produits de haute technologie. ③ Les films de dépôt en phase vapeur sont principalement obtenus sous certains degrés de vide et températures. La taille de la pièce est limitée par la taille de la chambre à vide ; La performance du traitement thermique et la précision de la forme de la pièce sont affectées par la température de dépôt. La température de la pièce de la méthode PVD est principalement de plusieurs centaines de degrés Celsius, tandis que la température de la pièce de la méthode de dépôt chimique en phase vapeur est principalement de 80 à 1200 degrés Celsius. En raison de la nécessité d'être équipé de systèmes de vide, de chauffage, de contrôle et autres, l'investissement dans de grands équipements de revêtement sous vide plus avancés est généralement plus élevé.

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