Technique de dépôt physique en phase vapeur pour les revêtements quaternaires (Cr, Ti, Al) N
Aug 26, 2024| Technique de dépôt physique en phase vapeur pour les revêtements quaternaires (Cr,Ti,Al)N
À l'heure actuelle, parmi les technologies de dépôt physique en phase vapeur pour la préparation de revêtements quaternaires (Cr, Ti, Al) N, la technologie de pulvérisation magnétron et la technologie de placage ionique à arc cathodique sont plus largement utilisées. Parmi eux, la technologie de pulvérisation magnétron présente les avantages d'une faible température de dépôt, d'une composition de film plus uniforme, d'une finition de surface de film plus élevée, d'une meilleure qualité de formation de film, d'un contrôle facile du taux de dépôt et de l'épaisseur et d'une opération facile, et est devenue l'un des films les plus importants. technologies de dépôt dans les domaines de la recherche industrielle et scientifique.
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