Taux de dépôt de film en CVD

Les taux de dépôt de film en CVD sont généralement faibles, allant de quelques nanomètres par seconde à quelques micromètres par heure, selon le type de précurseur, la température du substrat et la pression. La vitesse de dépôt peut être contrôlée en ajustant le débit du précurseur, la température du substrat et la pression dans la chambre.

Société IKS PVD, machine de revêtement décoratif, machine de revêtement d'outils, machine de revêtement DLC, machine de revêtement optique, ligne de revêtement sous vide PVD, le projet clé en main est disponible. Contactez-nous maintenant, E-mail : iks.pvd@foxmail.com