Dépôt photochimique direct en phase vapeur DLC (DPCVD)

Le dépôt photochimique direct en phase vapeur (DPCVD) consiste à utiliser des photons pour favoriser la décomposition du gaz afin de déposer des films de type diamant. Il n'y a aucun problème tel que le rayonnement de particules à haute énergie pendant la formation du film, et la température du substrat peut chuter très bas, ce qui présente des avantages dans la formation de film à basse température.

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