Taux de dépôt des films en pulvérisation magnétron

Les vitesses de dépôt de films dans la pulvérisation magnétron sont généralement élevées, allant de quelques nanomètres par seconde à quelques micromètres par heure, selon le type de cible, la température du substrat et la pression. Le taux de dépôt peut être contrôlé en ajustant la densité de puissance et la pression de gaz dans la chambre.

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