Le travail principe et caractéristiques techniques des multi-Arc Ion Plating

Multi-arc ion électrodéposition est une nouvelle technologie de préparation de revêtement développée sur la base d’évaporation sous vide et de pulvérisation cathodique sous vide. Il est aussi appelé l’évaporation sous vide, qui utilise la décharge d’arc sous vide pour source d’évaporation arc. Multi-arc ion technologie de placage ayant les caractéristiques des taux de dépôt élevé, adhérence du bon revêtement, revêtement dense et facilité d’utilisation, il a été largement utilisé dans le domaine de la modification de la surface des matériaux.

En 1963, Mattox proposé et utilisé ion technologie de placage pour la première fois ; en 1972, Bunshah et coll. a développé une technologie active évaporation réactive (ARE) ; en 1973, Mulayama et coll. a inventé le placage ionique à radiofréquence excitation. Dans les années 1980, placage ionique est devenu une industrie de haute technologie dans le monde. Les principaux produits comprennent TiN, TiAlN couches résistant à l’usure et outils d’alliage étain imitations or les revêtements décoratifs sur l’acier à coupe rapide et dur. En 1982, multi-arc société des États-Unis lancé un appareil commercial pour l’électrodéposition multi-arc ion, et en 1986, la Chine a commencé la production de multi-arc ion plating equipment. Dans les années 1990, l’ion plating technologie a beaucoup progressé. En comparaison avec les années 80, l’ion placage des équipements et la technologie ont été considérablement améliorés. Ces dernières années, différents types d’équipement de machine de revêtement ion ont été fabriqués conformément aux exigences d’utilisation différente, dont certains ont atteint le niveau de la production industrielle.

Principe de fonctionnement de l’électrodéposition multi-d’arc ion

Le principe de fonctionnement de multi-l’arc ion technologie de placage repose principalement sur la théorie décharge de cathode froide arc sous vide. Après l’allumage de l’arc sous vide, des discontinuités, des spots lumineux et variés de différentes tailles et formes est apparu sur la surface de la cible de la cathode. Ils se déplacer rapidement irrégulièrement sur la surface de la cathode, certains endroits sont éteints et certains endroits sont formés dans d’autres endroits pour maintenir l’arc brûlant. La densité de courant de la cathode spot est jusqu'à 104 ~ 105 a/cm2 et émet une vapeur métallique à un taux de 1000 m/s, un atome de métal peut être tiré pour chaque 10 électrons émis. Et puis ces atomes sont ensuite ionisés en ions positifs très énergiques. L’ion positif est combinée avec d’autres ions lorsqu’il est utilisé dans une chambre à vide et déposé sur la surface de la pièce pour former le film.

La théorie de décharge d’arc sous vide est d’avis que la migration quantité électrique est principalement due à émission d’électrons de champ et des courants d’ions positifs. Et ces deux mécanismes existent en même temps et restreignent les uns des autres. Au cours de la procédure de décharge, le matériau de cathode s’évapore en grande quantité. Les ions positifs produites par ces atomes vaporisés produisent un très fort champ électrique dans une très courte distance, près de la surface de la cathode.

Caractéristiques techniques de placage à multi-l’arc ion

La caractéristique marquante de l’ion d’arc multi procédé de placage est qu’elle peut produire plasma constitué de matériaux évaporés hautement ionisés. Et évaporation, ionisation et l’accélération sont tous concentrés dans le spot de la cathode et dans la petite zone autour d’eux.

Caractéristiques :

(1) le plasma est produit directement à partir de la cathode.

(2) l’énergie des particules incident haute et densité du revêtement, bonne résistance et durabilité.

(3) taux d’ionisation une forte et en général jusqu'à 60-80 %

(4) le taux de dépôt est rapide et la propriété de placage est bonne.

(5) l’équipement est relativement simple et il est préférable de travailler avec une alimentation basse tension.

Résultats de la recherche technique

IKS a coopéré activement avec les entreprises nationales et étrangères et les instituts de recherche scientifique et a fait des réalisations gratifiantes dans certaines applications de revêtement plus couramment utilisés. Le procédé de revêtement utilisable pour le film de revêtement avec la dureté élevée, stabilité thermique et stabilité chimique. Et divers revêtements de dépôt vapeur physique, tels que TiN, TiCN, AlTiN, AlTiSiN, CrN, DLC, etc..