Introduction du biais
Feb 09, 2018| La tension de polarisation se réfère à la tension négative appliquée au substrat pendant le processus de revêtement. La borne positive de l'alimentation de polarisation est connectée à la chambre à vide, tandis que la chambre à vide est reliée à la masse. La borne négative de la tension de polarisation est connectée à la pièce. Parce que la tension de la terre est généralement considérée comme un potentiel nul, la tension sur la pièce que la polarisation négative, appelée polarisation.
1. Fonction du biais négatif
◆ Fournir de l'énergie des particules;
◆ Effet de chauffage sur le substrat;
◆ L'élimination des gaz et des salissures graisseuses adsorbées sur le substrat est bénéfique pour améliorer la force de liaison du film;
◆ Activer la surface du substrat;
◆ Pour les grandes particules dans l'ionisation d'arc ont un effet de purification.
2. Classification de la tension de polarisation
(1) Selon la forme d'onde peut être divisé en:
Polarisation DC Polarisation pulsée DC
Biais d'impulsions CC superposées Biais d' impulsions bipolaires
(2) Selon la nécessité de commuter la haute tension et la basse tension quand la puissance est utilisée, il peut être divisé en:
Schéma de sortie de puissance de commutation haute tension et basse tension
Pas besoin de commuter la sortie continue de régulation continue haute et basse tension
Paramètres ajustables de l'alimentation de polarisation: amplitude de polarisation, rapport cyclique, fréquence et forme d'onde.
3. Caractéristique de l'alimentation d'énergie de polarisation
◆ Le nombre d'extinctions d'arc par minute.
◆ Détection de la sensibilité des grands arcs (mJ / kW énergie d'arc détectable).
4. Charge caractéristique de polarisation
La charge de travail de la polarisation est le plasma et le plasma présente une résistance lorsque le biais DC est utilisé. D'autre part, lorsque la polarisation pulsée est appliquée, le plasma présente une résistance résistive + capacitive, ce qui peut être considéré comme une connexion en série de résistances et de condensateurs. L'essence de la capacité est causée par la gaine de plasma sur le substrat.
