Types et caractéristiques des équipements CVD
Nov 10, 2022| Types et caractéristiques des équipements CVD
Il existe de nombreuses méthodes de dépôt chimique en phase vapeur, telles que le dépôt chimique en phase vapeur à pression atmosphérique (APCVD), le dépôt chimique en phase vapeur à basse pression (LPCVD), le dépôt chimique en phase vapeur sous ultra-vide (UHVCVD), le dépôt chimique en phase vapeur induit par laser (LCVD) , dépôt chimique en phase vapeur d'organo-métalliques (MOCVD), dépôt chimique en phase vapeur plasma (PECVD), etc.
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