Revêtement de pulvérisation magnétron réactif

Revêtement de pulvérisation magnétron réactif
La pulvérisation cathodique réactive est un procédé dans lequel un film mince de composés est déposé en introduisant un gaz réactif (oxygène ou azote). Il est généralement utilisé pour pulvériser des oxydes, des nitrures, des carbures et des mélanges des trois. Dans le processus de pulvérisation réactive, le gaz de réaction réagit avec la cible de pulvérisation et se dépose ensuite sur le substrat. Le but de la pulvérisation réactive est de produire des films minces stoechiométriques et structurellement contrôlés. La composition du film peut être contrôlée en contrôlant les quantités relatives de gaz inerte et de gaz réactif.

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