Pvd méthode de pré-nettoyage 3 nettoyage de cuisson

Méthode de pré-nettoyage PVD 3nettoyage de cuisson

Méthode de nettoyage: méthode de nettoyage au four
But du nettoyage: pour éliminer les molécules d’eau
Moyens de nettoyage: le substrat est chauffé
Processus de nettoyage: le substrat est chauffé à 200 ° C dans un vide élevé pour éliminer le liquide de nettoyage résiduel et l’humidité sur le substrat. Il peut également être chauffé à une température élevée de 300-500 ° C dans l’atmosphère, et le temps de guérison est de 30-60 minutes.

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