Facteurs de Cause inégale minces par métallisation sous vide Machine de pulvérisation cathodique magnétron

Les facteurs de la couche de film inégal cause parmachine de métallisation sous vide pulvérisation cathodique magnétroncomprend trois aspects : vide État, champ magnétique et gaz argon.

Le principe de fonctionnement de lamachine de métallisation sous vide pulvérisation cathodique magnétronqui est sous les États sous vide, les électrons du champ magnétique orthogonal de bombarder l’argon et de former l’ion de l’argon, puis le bombardement le matériel cible, afin que l’ion de cible peut être déposée sur la surface de la pièce travaillée à film mince de forme.

L’état de vide a besoin du système de pompage au contrôle, et chaque évent doit être simultanément actionné et cohérente. Si le pompage n’est pas uniforme, la pression à l’intérieur de la chambre à vide sera inégale. La pression a une certaine influence sur le mouvement des ions. En outre, le temps de pompage doit être contrôlé. Trop court entraîne vide insuffisant, mais c’est trop long et un gaspillage de ressources.

Le champ magnétique fonctionne orthogonalement, mais il est impossible de faire de 100 % de l’intensité du champ magnétique uniforme. Lorsque le champ magnétique général est fort, l’épaisseur du film est grand, mais elle est petite, au contraire, elle entraîne l’incohérence de l’épaisseur du film. Cependant, dans le processus de production, l’inégalité du film en raison de la non-uniformité du champ magnétique n’est pas fréquent.

Uniformité de gaz argon affecte également l’uniformité du film, et le principe est similaire au vide. Parce que l’argon, pénètre dans la chambre à vide, la pression à l’intérieur de la Chambre va changer. La pression uniforme peut contrôler l’uniformité de l’épaisseur de la couche de la machine de métallisation sous vide pulvérisation cathodique magnétron.

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