Alimentation d'énergie de pulvérisation de Magnetron de MF de haute puissance

spécification

Caractéristiques

◆ La source de puissance de pulvérisation cathodique à magnétron MF à haute puissance peut mettre en œuvre la fonction d'extinction de l'arc de manière raisonnable et rapide en se conformant entièrement aux exigences de puissance. Et l'alimentation a des capacités d'affichage et de protection parfaites de sous tension, surtension, surcharge, surchauffe, etc. En outre, elle peut pulvériser des cibles non conductrices et augmenter le taux d'ionisation pour surmonter efficacement l'empoisonnement de la cible et la décharge anormale.

◆   L'alimentation adopte la technologie avancée d'alimentation de l'onduleur à haute fréquence et le module d'alimentation IGBT pour réduire l'élément de stockage d'énergie de sortie, en conséquence, la couche de revêtement est extrêmement dense et lisse.

◆   En utilisant le microcontrôleur à écran tactile, l'alimentation est hautement intégrée et puissante avec une utilisation facile. L'affichage du courant et de la tension est très clair et intuitif.

◆   La technologie de suppression d'arc PHP assure que les utilisateurs peuvent contrôler la qualité de la couche de revêtement plus pratique dans le processus de traitement de surface. En outre, ayant les caractéristiques de stabilisation de tension et de coup de fouet idéal, l'alimentation peut efficacement inhiber l'arc sur la surface de la pièce, et améliorer significativement le rendement de production, ainsi que la finesse de surface et l'adhérence du film.

◆   L'alimentation offre trois modes (tension constante, courant constant et puissance constante) parmi lesquels choisir. Comparé au mode courant constant traditionnel, le mode de puissance constante peut mieux assurer la répétabilité du processus de revêtement.

◆ L'alimentation électrique peut communiquer avec l'ordinateur hôte via les ports numériques tels que RS232, RS485, WIFI, etc., ce qui étend sa fonction de contrôle.

◆   Avec une large gamme de puissance et de fréquence de sortie, l'alimentation peut répondre aux besoins de différentes applications de processus.

◆   Les principaux paramètres de celui-ci peuvent être ajustés dans une large gamme.

Application

La source d'énergie de pulvérisation de magnétron de MF de puissance élevée est très utilisée dans le plasma, physique, chimique, médical et divers champs de recherche scientifique, elle peut répondre à une large gamme d'exigences de processus particulièrement dans l'équipement de revêtement sous vide.

Comparaison des performances par rapport à l'alimentation de pulvérisation de magnétron MF 30kw

Avantages de la source d'alimentation de pulvérisation de magnétron de puissance élevée MF EP125A80H

◆   Utilisation élevée de l'espace du four

EP125A80H nécessite moins de cibles de fréquence intermédiaire, et assure une utilisation plus élevée du four et une meilleure capacité de production.

◆ Excellente technologie de suppression d'arc

EP125A80H adopte la technologie de suppression d'arc PHP, de sorte que les utilisateurs peuvent facilement contrôler la qualité du film dans le processus de traitement de surface pour obtenir une meilleure structure du film.

◆ Bonne compatibilité

Les utilisateurs peuvent remplacer l'alimentation électrique de pulvérisation cathodique magnétron existante avec EP125A80H directement, et seulement besoin de remplacer le système de refroidissement au lieu de remplacer les matériaux de la cathode et les champs magnétiques.

◆   Rapport puissance / volume élevé

Un rapport puissance / volume élevé facilite l'intégration de l'installation de l'équipement pour les utilisateurs.

Emballage: 1. boîte en bois

2. Carton

3. Comme votre demande

Paiement: T / T, L / C, etc.

Délai de livraison: Normalement 15 ~ 20 jours après paiement

Expédition: Par air ou par mer

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